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标题:Deep reactive ion etching of alumina titanium carbide using chlorine-based plasma
时间:2021-04-08 10:37:10
DOI:10.1016/j.surfcoat.2016.05.076
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目录:
  • Deep reactive ion etching of alumina titanium carbide using chlorine-„based plasma
    • 1. Introduction
    • 2. Experiment
      • 2.1. Creation of vapor pressure-temperature plot for byproducts
      • 2.2. Sample preparation for chlorine-based plasma etching
    • 3. Results and discussion
    • 4. Conclusion
    • Acknowledgements
    • References

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